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鍍膜制程原理
所屬分類： 行業(yè)資訊
2023-09-27 15:51
薄膜沉積也稱為鍍膜（deposition film），通?？煞譃榛瘜W(xué)氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）,前者往往用于非金屬材料的薄膜沉積，后者用于金屬材料或金屬合金材料的薄膜沉積。雖然都是鍍膜工藝，但是其原理不同，以等離子增強(qiáng)化學(xué)氣象沉積（PECVD）為例，其工作原理在真空環(huán)境下，通入制程氣體并在13.56Hz強(qiáng)電場下形成plasma（等離子體電漿）狀態(tài)，然后利用氣體分子的相互碰撞發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成目標(biāo)物在基板上沉積完成鍍膜。
所謂plasma是大量帶負(fù)電的電子（electron）、帶正電的離子（ion）、各種中性自由基（radical)、原子（atom）和分子（molecule）集合在一起，但其中的正負(fù)電荷總數(shù)卻處處相等并對外顯示電中性，這種狀態(tài)的氣體就稱為電漿；其化學(xué)性質(zhì)很活潑，能壘很低，易于參與反應(yīng)生成更穩(wěn)定的物質(zhì)。
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